岗位职责
(1) 主导光学邻近效应校正（OPC）模型与配方的开发、验证及优化，解决先进工艺节点下的图形失真问题。
(2) 主导分析晶圆数据，识别并解决光刻工艺中的缺陷，与光刻、刻蚀等团队协作提升整体工艺良率。
(3) 主导建立、优化并标准化OPC工作流程，编写自动化脚本以提升工作效率和准确性。
(4) 作为技术核心，与设计、工艺、光罩厂等多部门紧密协作，提供专业的技术支持。
岗位要求
(1) 本科及以上学历，光学、物理、微电子、电子工程、化学或材料等相关专业。
(2) 5年以上半导体行业OPC或光刻技术相关经验，精通基于规则和基于模型的OPC。
(3) 熟练掌握主流EDA工具（如Synopsys或Mentor等工具），熟悉Linux操作系统。
(4) 深刻理解光刻工艺及半导体制造流程，熟悉光刻机工作原理及相关量测设备。
(5) 具备较强的编程能力，能使用Python或Perl等脚本语言开发自动化工具。
(6) 具备良好的沟通能力、团队合作精神及问题分析能力，部分岗位需具备流利的英语沟通能力。
岗位亮点
(1) 核心技术：处于半导体制造的关键核心环节，深度参与先进工艺节点的设计布局与良率提升。
(2) 自动化赋能：技术全栈，涵盖模型开发、工艺协同及自动化工具脚本编写，个人成长空间大。
(3) 跨界协作：作为技术纽带，紧密连接设计端、工艺端与光罩厂，具备极高的行业技术视野
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